产品名称:LCD黄光湿制程整厂解决方案
湿制程解决方案包括清洗、显影、蚀刻、剥膜等制程
·清洗制程设备: 丝印前清洗、PR前清洗、PI前清洗、镀膜前清洗、镀膜后清洗、切割后清洗
·显影制程设备:(C/F)黄光制程显影
·蚀刻制程设备:金属层蚀刻、透明导电层ITO蚀刻、二氧化硅SiO2蚀刻
·剥膜制程设备:金属层蚀刻、透明导电层ITO蚀刻、二氧化硅SiO2剥膜
客户价值
·卓越的清洗效果:有效去除Particle、粉尘、有机杂质
·去除率>95%以上(依不同洗净配置需定)
·有效去除有机污染物,降低接触角,增加成膜能力
·特殊本体设计: 设备内部无交叉污染或腐蚀及较低的玻璃破损率,可有效减少设备停机时间,增加产出能力
·设备尺寸设计:占地面积小,减少客户厂房用地面积,降低总拥有成本
·零件模块化设计:高自制率及自主设计能力,减少客户零组件库存压力及增加维修便利性,缩短维修时间,减少总拥有成本
·先进制程设计:节省纯水及药液消耗量,减低运转成本及响应绿色产品政策