高感度,
基板 :ITO玻璃 (30Ω)
膜厚 :1.62μm
前烘 :100℃ X 90sec. (热板)
曝光 :宽曝光度
显影 :0.8% KOH X 60sec.
后烘 :120℃ X 120sec. (热板)
蚀刻 :HNO3:HCl:H2O = 4:23:73 @ 40℃
剥离 :3.0% NaOH @ 50℃ X 120sec.
结果测试条件
基板 :ITO玻璃
膜厚 :1.62um
前烘 :100℃ X 90sec.
曝光 :60-100 mJ/cm2
显影 :0.8% KOH X 60sec.
后烘 :120℃ X 90sec
剥离 :3.0% KOH @ 50℃ X 120sec.
分辨率测试条件
基板 :ITO玻璃
膜厚 :1.62um
前烘 :100℃X90sec.
曝光 :85mJ/cm2
显影 :0.8% KOH X 60sec..
曝光宽容度测试条件
基板 :ITO玻璃
膜厚 :1.62um
前烘 :100℃X90sec.
曝光 :不同曝光能量
显影 :0.8% KOH X 60sec..
.
不同浓度显影液测试条件
基板 :ITO玻璃
膜厚 :1.62um
前烘 :100℃X90sec.
曝光 :不同曝光能量
显影 :不同浓度KOH X 60sec..
ITO基板上粘附性的测试条件
基板:ITO玻璃
膜厚:1.62um
前烘:100℃X 90sec.
曝光:60-100mJ/cm2
显影:0.8% KOH X60sec
后烘:120℃X 90sec