提高晶圆表面粘附力或附着力

 晶圆容易吸附潮气到它的表面。光刻胶黏附要求要严格的干燥表面， 所以在涂胶之前要进行脱水烘焙和黏附剂的涂覆。脱水烘焙的温度通常在140度到200度之间。有时还要用到黏附剂，黏附剂通常使用HMDS （六甲基二硅胺脘）。表面处理的主要作用是提高光刻胶与衬底之间的粘附力，使之在显影过程中光刻胶不会被液态显影液渗透。

抽屉式UV光清洗机适用小型基片清洗，如液晶面板，ITO导电膜玻璃，光学玻璃，OLED，LCD，硅片，陶瓷，金属片，聚合物，硅胶等表面清洗，用于清洗产品的表面有机物，即进行表面改质，从而获得较好的亲水性。可提供客户化设计。BZZ250GF-TC

可选择清洗面积：6英寸-150*150mm，8英寸-200*200mm，12英寸-300*300mm，16英寸-400*400mm                

 产品配置

电源：220V；

灯管：特殊格册状石英灯管，110W,寿命8000小时；

时间控制：0-99.99小时或分钟；

照射高度：20-100mm;

UV ON/OFF指示，异常指示/警报;

灯管预热：具灯管预热提示功能;

排风功能：自带抽风机；

 

应用领域

■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。

■清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片

■清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器

■蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料

■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面

■增强玻璃的除气作用

■基片蓝膜去除

■增强塑料表面的镀膜的粘附性

■基片终测后墨迹清楚

■去除光刻胶

■平板显示器/液晶显示器

■去除光刻机台上的光刻胶残留物

■在电路板封装和打片之前清洗）

■光纤

■增强表面亲水特性

■为生物科学应用做清洗和消毒

■光学透镜

■其它应用